四氯化硅和什么反应生成硅（四氯化硅变成硅方程式）
摘要：
2、四氯化硅与氢气反应生成高纯度硅的条件是什么?... 本篇目录：
工业制硅的三步反应
工业制备硅主要通过石英（二氧化硅，SiO2）的还原反应来进行。石英是一种常见的硅源，它可以与还原剂（如碳）发生反应，将氧还原成二氧化碳，从而得到纯净的硅。
工业制硅化学方程式：2C+SiO2==高温＝＝2CO+Si（得到粗硅）Si+2Cl2==SiCl4 2H2+SiCl4==高温＝＝Si+4HCl（得到精硅）硅的物理性质：有无定形硅和晶体硅两种同素异形体。
在这个反应中，石英矿石（SiO2）和碳（C）在高温条件下发生反应，产生硅（Si）和一氧化碳（CO）。这个反应是一种还原反应，碳起到还原剂的作用，将氧从二氧化硅中剥离出来，从而得到纯度较高的硅。
Si + 2Cl2 = SiCl4 SiCl4 + 2H2 = Si +HCl 条件都是高温 第二种.将细砂粉（SIO2）与镁粉混和，制得粗硅。这种粗硅往往含有过量的镁氧化镁和硅化镁，可用盐酸除去。
四氯化硅与氢气反应生成高纯度硅的条件是什么?
首先将四氯化硅和氢气充分混合。其次将混合物加热至一定温度，使四氯化硅发生氢还原反应。最后将反应物冷却至室温，形成多晶硅即可。
在高温条件下四氯化硅和氢气反应生成了硅和氯化氢。四氯化硅与氢气反应是粗硅提纯的最后一步，能生成硅和盐酸，四氯化硅为无色透明液体，氯化硅和氢气反应自发的原理在高温条件下四氯化硅和氢气反应生成了硅和氯化氢。
用焦炭与石英砂（SiO2）混合高温，产生粗硅。（SiO2+2C=高温=Si+2CO↑）将粗硅与氯气高温，生成四氯化硅。（Si+2Cl2=高温=SiCl4）将氢气与四氯化硅高温，生成单晶硅。
SiCl4+2H2==Si+4HCl 精馏提纯后的四氯化硅与高纯度的氢气在高温的还原炉内发生还原反应而制得高纯硅。硅的主要来源和用途 硅的原材料主要来源 硅在地壳中的含量是除氧外最多的元素。
SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑ 总反应式：SiO2+2C=Si+2CO（g）↑ 生成的硅由电炉底部放出，浇铸成锭。用此法生产的粗硅经酸处理后，其纯度可达到99%。
氧气。因为四氯化硅和氢气反应反应的过程中会遇到氧气，所以氧气是四氯化硅和氢气反应能自发进行的原因。四氯化硅化学式SiCl4，一种无机化合物 ，是工业制取高纯度单晶硅的中间产物。
四氯化硅得到纯硅的化学方程式
1、反应速率快；与前两个反应比较，更易于使硅分离，使化学平衡向右移动，提高转化率。
2、高纯硅的制备化学方程式：SiO2+C=Si+2CO，Si+2Cl2=SiCl4，SiCl4+2H2=Si+4HCl，反应条件都是：高温。高纯硅的制备一般首先由硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的多晶硅，最后拉制成半导体材料硅单晶。
3、生成硅酸和盐酸和氯化氢化学方程式为：SiCl4+4H2O=H4SiO4+4HCl。
4、(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___。②整个制备过程必须严格控制无水无氧。
5、分子式：SiCl4 分子量：1690 饱和蒸气压(kPa)：599(38℃)溶解性：可混溶于苯、氯仿、石油醚等多数有机溶剂。化学性质：受热或遇水分解放热，放出腐蚀性烟气。对很多金属尤其是潮湿空气存在下有腐蚀性。
6、B、用于制光导纤维的是二氧化硅，高纯硅是良好的半导体材料，一般用来制作半导体器件、单晶硅太阳能电池板。
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